近期,光刻机板块主力资金持续大幅流入,其中不少个股成交量持续温和放大,出现了趋势走强的信号特征。可以这样说,光刻机板块的异军突起,价齐升的K线背后,是国产替代的坚定决心和资金之间的暗流涌动的表现。
政策、技术与需求共振,光刻机板块估值持续攀升
光刻机板块近期强势走高,其板块估值水平也在不断提升,这背后是有多重核心逻辑共同发力的结果。
1、政策红利释放了强大的驱动力。政策的持续发力,光刻机技术关键领域的不断突破,在不久的将来,我国在光刻机领域将会逐步实现国产自主可控。
2、技术突破为估值注入了长期成长性。国内产业链在光源、物镜等核心环节持续突破,部分企业已实现光刻机批量出货。而差异化技术路径的探索,让市场对国产光刻机打破国际垄断的能力持续放大。
3、市场需求提供了坚实的业绩支撑。今年我国大陆晶圆厂设备投资规模预计达310亿美元,同比增长18%,其中光刻机占比高达23%。加上生成式AI爆发对先进制程芯片的强劲需求,设备采购浪潮为国产光刻机企业创造了确定性增长机遇。
概括的说,政策、技术、需求三重引擎驱动下,光刻机板块估值正发生中枢系统性上移。
光刻机板块主力资金连续增仓,7月整体资金流入强势
资金动向是板块热度的直接风向标。
7月以来,光刻机板块持续吸引主力资金涌入,形成明显的量能放大趋势。其中最具代表性的是科创半导体ETF,该ETF聚焦半导体设备与材料领域。截至目前,该ETF近一周累计上涨6.21%,近5个交易日内连续4天获得市场资金净流入,累计流入资金达到1.14亿元。主力资金持续流入科创半导体ETF,表明机构对光刻机产业链的配置意愿持续强化。
资金持续流入和板块放量上涨形成正向循环,推动板块行情向上趋势逐步的展开。
连续放量拉升的光刻机概念股的是否值得介入和离场的信号
面对连续拉升的光刻机概念股,我们需要理性权衡机会和风险,把握好具体的操作方法。
是否值得介入?关键要看主力资金流入的持续性、近期有没有出现技术的重大突破以及政策的落地情况,尤其是近期市场高度关注的大基金三期,要留意三基金三期是否会加速投入光刻机“卡脖子”的环节。
当然,我们也需要明确判断出一些关键的离场信号。比如关键承压位能否有效突破、板块的交易热度和情绪以及主力资金的流出情况,一旦板块出现高位巨量收阴线的情况,则是明显的资金离场信号。
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